全新的 SiliconSmart DFM，Talus DFM 以及 Quartz DRC-Litho产品实现了有DFM意识的设计方案

美国加利福尼亚州圣塔克拉拉市，2006年7月17日讯—半导体设计软件供应商微捷码（Magma）®设计自动化有限公司（纳斯达克股票交易代码：LAVA），于今日发布了一款综合的、全新的、面向亚纳米设计的可制造性设计（DFM）方法。Characterization-to-Silicon™（特征表征到硅片）的可制造性设计流程包括实现模型特征表征的全新SiliconSmart® DFM、实现设计实施的Talus™ DFM，以及实现签核验证的Quartz™ DRC-Litho。微捷码（Magma）结合了基于模块和规则的方法，实现了唯一整合的流程，更好地解决了偏差问题，同时最小化了系统的和参数的良率损失。利用这一流程，用户能够准确地预测、预防并纠正与DFM相关联的问题，实现更快速度的出片、达到更高的良率，并有效降低设计的负面影响。由于准确的签核设计DFM规则检查是在整个实施流程中完成的，因此从设计移交到制造的过程也同时得以简化。

微捷码（Magma）公司设计实施业务部总经理Kam Kittrell 表示：“可制造性设计是一项极其复杂的任务，利用单点工具或者后布局规划的调整，根本无法完完整整地、有效地完成这一任务。”他继续评论道：“对于65纳米的设计而言，在实施阶段必须满足DFM条件，才能确保硅片的成功。微捷码（Magma）的特征表征到硅片流程恰恰能够达成这一目标，而且，通过与代工厂和集成器件制造商（IDMs）的紧密合作，微捷码（Magma）公司已经开发出了光刻和化学机械研磨（CMP）建模，其准确度完全能够满足制造工艺过程中的偏差和细微瑕疵的需求，有效降低了敏感度，实现了鲁棒性更强的设计。”
 
微捷码（Magma）是唯一能够提供完整的、具有可制造意识设计方法的公司，曾经开发出了号称公司黄金标准的QuickCap 3D 电容提取工具、业界领先SiliconSmart 库特征环境、基于实施的统一数据模型、精确的硅片统计静态时序分析（SSTA）以及物理校验软件。全新的SiliconSmart ?DFM实现了具有偏差意识的特征表征环境，生成用于统计时序和泄漏分析的模型。Talus DFM 通过提供精确的代工厂单元良率和关联良率预测、预防和修正，同时解决了随机的和系统的良率损失。有效的光刻模拟是内置的，能够提供危点的辨别和消除。Quartz SSTA 在工艺流程和设计变化的前后提供了时序分析和优化。Quartz DRC 实现了基于GDS的DFM分析、一致性校验和改进。这一综合的DFM解决方案能够通过Talus平台访问，实现了更快的周期和更高品质的设计。

特征表征：SiliconSmart 可制造性设计
通过利用SiliconSmart DFM 来完成由工艺过程变化引起的细微电气影响的模型特征描述，从而降低了对防护频带和边缘的需求。QuickCap NX 提供了精确的寄生电容提取，Quartz DRC-Litho 解决了光刻的影响，成就了SiliconSmart DFM 唯一完整的有DFM意识的特征表征环境。模型对偏差和系统影响的敏感度能够在模型开发的过程中进行评估和计算，确保实施工具具备性能最稳定的、最精确的模型。

实施：Talus DFM、Quartz SSTA
微捷码（Magma）公司有DFM意识的实施流程实现了面向面积、时序、功率、噪音以及良率的协同优化。通过在传统的基于规则的实施流程中增加基于模型的DFM解决方案，无需影响设计周期或者牺牲性能就能够实现优秀的良率管理。准确的系统性偏差建模有效改善了设计时序和泄漏，改善率可达15%。Quartz SSTA 提供了完善的签核品质的设计环境，包括处理工艺过程偏差的统计学方法，以减少设计的消极因素和过多的设计余量。通过减少消极因素，即可实现尺寸更小的晶片，或者实现性能的改善。利用基于临界面积分析的线路加宽和分布，使得设计得以优化，从而降低了良率的损失。微捷码（Magma）固有的布线规划优势使得设计路径减少了40%。冗余路径和推荐的线端扩展确保了路径的可靠性。光刻危点以DRC-clean（设计规则检查）和时序意识的方式得以识别并消除。化学机械研磨（CMP）的影响能够被精确建模，为设计师们提供了伪金属填充质量的即时反馈。Talus DFM 和 Quartz SSTA 被完全整合在Talus 实施平台上，从而简化了DFM规则。

验证：Quartz DRC/LVS/Litho
Quartz DRC/LVS/Litho 实现了签核品质的物理验证环境。该系统以独特的管道架构为基础，提供了计算的可扩展性，能够在不到2个小时的时间内处理任意规模的设计。嵌入的DFM光刻效果模型允许对实际的硅片进行分析，而不是只针对画出的图形。基于模型的设计验证方法对于减少参数的和系统的良率损失是必需的。相同的具有签核精度的DRC和光刻建模解决方案能够独立运行，或者通过Blast Fusion® 或Talus实施流程访问。

微捷码（Magma）公司将于7月24日至27日，在美国旧金山举办的设计自动化大会上演示特征表征到硅片的有DFM意识的流程。设计师可以通过登录网站www.magma-da.com/DAC.html注册在线观摩演示。